O investimento ajudará a aumentar a produção para atender à crescente demanda por semicondutores avançados, alimentando uma nova geração de produtos inovadores da Intel e atendendo às necessidades dos clientes de fundição como parte da estratégia IDM 2.0 da Intel.
Como o maior investimento individual do setor privado na história de Ohio, espera-se que a fase inicial do projeto crie 3.000 empregos na Intel, 7.000 empregos na construção ao longo da construção e apoie dezenas de milhares de empregos locais adicionais de longo prazo em um amplo ecossistema de fornecedores e parceiros.
Para apoiar o desenvolvimento do novo site, a Intel prometeu US$ 100 milhões adicionais para parcerias com instituições educacionais para criar um canal de talentos e fortalecer os programas de pesquisa na região.
O início da construção ocorreu há alguns meses, com a presença do presidente dos Estados Unidos, Joe Biden.
Pat Gelsinger, CEO da Intel, visto à esquerda na foto principal, ao lado do presidente Biden, foi o anfitrião do evento.
De acordo com Keyvan Esfarjani, vice-presidente executivo e diretor de operações globais da Intel, “Future Chip Demand Demands Future Capacity”, como afirma seu artigo no site da empresa.
Esfarjani escreve: “As melhores instalações de semicondutores – ou fábricas – levam de três a cinco anos para serem construídas. E isso depois de ter o terreno, a equipe de construção e a visão de onde essa capacidade é mais necessária.
“Acreditamos que a Europa e os EUA são regiões que podem apoiar e se beneficiariam de ecossistemas de semicondutores mais fortes”.
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